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公司多年来坚持技术研发和创新，在G11掩膜版制造、全世代半色调掩膜版制造、大尺寸光阻涂布多个领域打破海外垄断，积累了一系列技术研发成果，包括PSM生产制作、电子束光刻、干法刻蚀、等离子束修补、虚拟光刻、反演光刻等等。目前公司在平板显示掩膜版领域做到全世代、全技术覆盖，在半导体掩膜版领域加速突破、领先布局，未来向先进制程进军，计划完成28nm半导体掩膜版的生产销售，进一步实现国产替代。